%0 Journal Article
%T Study of one-dimensional spatial distribution of the plasma luminous radicals during depositing silicon films<br>硅薄膜沉积过程中等离子发光基团的一维空间分布研究
%A Chen Fei
%A Zhang Xiao-Dan
%A Zhao Ying
%A Wei Chang-Chun
%A Sun Jian
%A <br>陈飞
%A 张晓丹
%A 赵颖
%A 魏长春
%A 孙建
%J 物理学报
%D 2008
%I 
%X 使用光发射谱(OES)对甚高频等离子增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术沉积硅薄膜时的等离子体发光基团的空间分布进行了在线监测和研究. 研究表明：等离子体的不同发光基团都存在着一个中间强度较大的区域和两边电极附近的暗区；增大硅烷浓度和提高辉光功率都会增大SiH*峰强度；硼烷的加入，使得SiH*和Hα*峰强度增大，但硼烷流量变化的影响很小；硼烷流量增大，材料的晶化率下降，而I［Hα*］
%K very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition
%K plasma
%K luminous units
%K spatial distribution<br>甚高频等离子增强化学气相沉积，
%K 等离子体，
%K 发光基团，
%K 空间分布
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=C882F70B008A68CC6467F02A47E94168&yid=67289AFF6305E306&vid=11B4E5CC8CDD3201&iid=94C357A881DFC066&sid=2473E5B377B5E48C&eid=AF7332C1BA95E3DF&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=19