%0 Journal Article %T Electron holography investigation on the barrier structures of Co based magnetic tunnel junctions
Co基磁性隧道结势垒结构的电子全息研究 %A Zhang Zhe %A Zhu Tao %A Feng Yu-Qing %A Zhang Ze %A
张 喆 %A 朱 涛 %A 冯玉清 %A 张 泽 %J 物理学报 %D 2005 %I %X 利用高分辨电子显微术和电子全息方法研究了Co基磁性隧道结退火热处理前后的微观结构及相应势垒层结构的变化. 研究结果表明,退火处理可以明显地改善势垒层和顶电极、底电极之间的界面质量,改进势垒层本身的结构. 这与该磁性隧道结经过280℃退火处理后,隧道磁电阻值大大增加是一致的. %K magnetic tunnel junctions %K tunneling magnetoresistance %K high-resolution electron microscopy %K electron holography
磁性隧道结, %K 隧道磁电阻, %K 高分辨电子显微学, %K 电子全息 %U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=FDEF317CB5C0CAA2&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=318E4CC20AED4940&iid=59906B3B2830C2C5&sid=A1E2968AE00A7FB8&eid=6CDD6C08E30EEA3A&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=18