%0 Journal Article
%T Electron holography investigation on the barrier structures of Co based magnetic tunnel junctions
Co基磁性隧道结势垒结构的电子全息研究
%A Zhang Zhe
%A Zhu Tao
%A Feng Yu-Qing
%A Zhang Ze
%A
张 喆
%A 朱 涛
%A 冯玉清
%A 张 泽
%J 物理学报
%D 2005
%I
%X 利用高分辨电子显微术和电子全息方法研究了Co基磁性隧道结退火热处理前后的微观结构及相应势垒层结构的变化. 研究结果表明,退火处理可以明显地改善势垒层和顶电极、底电极之间的界面质量,改进势垒层本身的结构. 这与该磁性隧道结经过280℃退火处理后,隧道磁电阻值大大增加是一致的.
%K magnetic tunnel junctions
%K tunneling magnetoresistance
%K high-resolution electron microscopy
%K electron holography
磁性隧道结,
%K 隧道磁电阻,
%K 高分辨电子显微学,
%K 电子全息
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=FDEF317CB5C0CAA2&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=318E4CC20AED4940&iid=59906B3B2830C2C5&sid=A1E2968AE00A7FB8&eid=6CDD6C08E30EEA3A&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=18