%0 Journal Article
%T Zr-N films prepared by MW-ECR PE-UNB alanced magnetron sputtering: plasma diagnostics and structure evolution<br>MW-ECR PE-UMS等离子体特性及对Zr-N薄膜结构性能的影响
%A Zhang Zhi-Guo
%A Liu Tian-Wei
%A Xu Jun
%A Deng Xin-Lu
%A Dong Chuang
%A <br>张治国
%A 刘天伟
%A 徐 军
%A 邓新禄
%A 董 闯
%J 物理学报
%D 2005
%I 
%X 采用静电探针技术对微波电子回旋共振(MW-ECR) 等离子体进行了诊断,利用等离子体增强 非平衡磁控溅射(PE-UMS)法在常温下制备了Zr-N薄膜, 通过EPMA，XRD，显微硬度对膜的 结构和性能进行评价.实验结果表明，随氮气流量增加，总的等离子体密度从807×109c m-3增加到831×109cm-3然后逐渐减小为752×10 9cm-3；而N2+密度则从312×108< /sup>cm-3线性递增到335×109cm-3；电子温度变化 不大.对薄膜而言，随N2+密度增大，样品中氮含量增加，而晶粒逐 渐变小，当样品中N/ Zr原子比达到14时，薄膜中出现亚稳态的Zr3N4相以及非晶相， 在更高氮流量下，整 个薄膜转变为非晶态.与此相应，薄膜硬度由最初的225GPa增大到2678GPa 然后逐渐减 小到1982GPa.
%K ZrN film
%K ECR plasma
%K magnetron sputtering
%K plasma diagnostic<br>氮化锆薄膜，
%K ECR等离子体
%K 磁控溅射
%K 诊断
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=54949F822B004641&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=318E4CC20AED4940&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=83F0E7BE30617CBF&eid=304004327C104506&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=20