%0 Journal Article
%T Study of ferromagnetic semiconductor films: Ti1-xCoxO2<br>Ti1－xCoxO2铁磁性半导体薄膜研究
%A Song Hong-Qiang
%A Chen Yan-Xue
%A Ren Miao-Juan
%A Ji Gang
%A <br>宋红强
%A 陈延学
%A 任妙娟
%A 季 刚
%J 物理学报
%D 2005
%I 
%X 利用射频磁控反应溅射制备了Ti1-xCoxO2薄膜样品.超导量子干涉仪(SQUID)测量了样品在常温，低温下的磁特性.结果显示样品在常温下已经具有明显的铁磁性.常温时其矫顽力32×103A/m,饱和磁化强度55emu／cm3磁性元素的磁矩达0679μB／Co.饱和场12×104A/m.x射线衍射(XRD)和x射线光电子能谱(XPS)实验分析初步表明样品中没有钴颗粒.
%K ferromagnetism semiconductor
%K TiO2
%K film<br>铁磁半导体，
%K TiO2，
%K 薄膜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=9A8A9AF81FE9234B&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=318E4CC20AED4940&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=F7BB24011DC0D223&eid=965F4E89CD0AFC30&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=2&reference_num=27