%0 Journal Article
%T Preparation and properties of nano-structure Cu33N thin films<br>纳米Cu3N薄膜的制备与性能
%A Wu Zhi-Guo
%A Zhang Wei-Wei
%A Bai Li-Feng
%A Wang Jun
%A Yan Peng-Xun
%A <br>吴志国
%A 张伟伟
%A 白利峰
%A 王 君
%A 阎鹏勋
%J 物理学报
%D 2005
%I 
%X 采用柱状靶多弧直流磁控溅射法，100℃基底温度下在玻璃衬底上制备了纳米氮化铜(Cu33N)薄膜.用x射线衍射研究了不同氮气分压对Cu33N薄膜晶体结构 及晶粒尺寸的影响.结果显 示薄膜由Cu33N和Cu的纳米微晶复合而成，其中Cu33N纳米微晶具有 立方反ReO33结构.通 过原子力显微镜对薄膜表征显示，膜表面比较光滑，具有较低的粗糙度.x射线光电子能谱对 薄膜表面的成分分析表明，Cu3
%K copper nitride(Cu33N) thin film
%K multi-arc DC magnetron
%K sputtering
%K cubic anti-ReO33 structure<br>氮化铜薄膜
%K 多弧直流磁控溅射
%K 立方反ReO33结构
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=4A15B1F3AADBBEF2&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=318E4CC20AED4940&iid=E158A972A605785F&sid=5A16362B1718D389&eid=4C12600E16738B59&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=5&reference_num=12