%0 Journal Article
%T Investigation of a new type nano carbon film prepared by high energy plasma assisted CVD<br>高能等离子体辅助CVD法新型纳米碳膜的制备及分析
%A Yang Wu-Bao
%A Fan Song-Hu
%A Ge Min
%A Zhang Gu-Ling
%A Shen Zeng-Min
%A Yang Si-Ze
%A <br>杨武保
%A 范松华
%A 戈 敏
%A 张谷令
%A 沈曾民
%A 杨思泽
%J 物理学报
%D 2006
%I 
%X 利用自制高能等离子体辅助化学气相沉积设备在1Cr18Ni9Ti衬底上，在离子能量2keV、工作压力2Pa、工作气氛为CH4/H2=10%的工艺条件下得到了一种硬度高、导电性能良好、可能具有碳链结构的新型碳膜.工艺研究结果表明，衬底材料对制备该新型纳米碳膜具有关键作用，离子能量、工作压力及气氛等工艺因素也具有重要作用.原子力显微镜分析结果表明，该薄膜晶粒尺寸小于100nm，薄膜光滑、致密、均匀.拉曼光谱分析显示，该薄膜的拉曼光谱特征为中心峰在1580cm
%K high energy plasma
%K CVD
%K new type carbon film
%K substrate material<br>高能等离子体
%K CVD法
%K 纳米碳膜
%K 衬底材料
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=AB2F21EB30FB0FEE&yid=37904DC365DD7266&vid=E514EE58E0E50ECF&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=381FB4265090A8E0&eid=35E8A259891FB32F&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=31