%0 Journal Article
%T Roughness and light scattering properties of ZrO2 thin films deposited by electron beam evaporation<br>电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性
%A Hou Hai-Hong
%A Sun Xi-Lian
%A Shen Yan-Ming
%A Shao Jian-Da
%A Fan Zheng-Xiu
%A Yi Kui
%A <br>侯海虹
%A 孙喜莲
%A 申雁鸣
%A 邵建达
%A 范正修
%A 易葵
%J 物理学报
%D 2006
%I 
%X 利用电子束蒸发工艺，以Ag层为衬底，沉积了中心波长为632.8nm的氧化锆(ZrO2)薄膜，膜层厚度在80—480nm范围内变化.研究了不同厚度样品的粗糙度变化规律和表面散射特性.结果发现，随着膜层厚度的逐渐增加，其表面均方根(RMS)粗糙度和总积分散射(TIS)均呈现出先减小后增大的趋势.利用非相关表面粗糙度的散射模型对样品的TIS特性进行了理论计算，所得结果与测量结果相一致.
%K ZiO2 coatings
%K surface roughness
%K scalar scattering
%K electron beam evaporation<br>氧化锆
%K 表面粗糙度
%K 标量散射
%K 电子束蒸发
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=A55E494AFF8E4F68&yid=37904DC365DD7266&vid=E514EE58E0E50ECF&iid=B31275AF3241DB2D&sid=D3A1CFE94F348BC6&eid=67B3357EDFB0796A&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=9&reference_num=23