%0 Journal Article
%T (111)取向(Pb,La)TiO3铁电薄膜中90°纳米带状畴与热释电性能的研究
%A 刘 洪
%A 蒲朝辉
%A 龚小刚
%A 王志红
%A 黄惠东
%A 李言荣
%A 肖定全
%A 朱建国
%J 物理学报
%D 2006
%I 
%X 采用射频磁控溅射技术在Pt/Ti/SiO2/Si(100)衬底上生长了掺镧钛酸铅(PLT)铁电薄膜.用X射线衍射技术(XRD)研究了PLT薄膜结晶性能，结果表明PLT薄膜为 (111)择优取向钙钛矿相织构.使用原子力显微镜(AFM)和压电响应力显微镜(PFM) 分别观察了PLT薄膜的表面形貌和对应区域的电畴结构.PFM观察显示PLT薄膜中存在90°纳米带状畴，电畴的极化为首尾相接的低能量的排列方式，带状畴的宽度为20—60nm.研究了PLT10铁电薄膜的制备条件与性能之间的关系.发现在优化条件下制备的PLT10铁电薄膜的介电常数εr为365、介电损耗tgδ为0.02，热释电系数γ为2.18×10-8C·(cm2·K)-1，可以满足制备非制冷红外探测器的需要.
%K PLT薄膜，
%K 电畴，
%K PFM，
%K 极化
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=0459BE8B4A30E77E&yid=37904DC365DD7266&vid=E514EE58E0E50ECF&iid=708DD6B15D2464E8&sid=1EB43CE6C323D789&eid=22DA0CA3CA548471&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=40