%0 Journal Article %T The influence of sputtering power on the giantmagneto-impedance of FeZrBCu film s
射频溅射功率对FeZrBCu软磁合金薄膜巨磁阻抗效应的影响 %A Wang Wen-Jing %A XIAO Shu-Qin %A LIU Yi-Hua %A Chen Wei-Ping %A DAI You-Yong %A Jiang Shan %A YUAN Hui-min %A Yan Shi-Shen %A
王文静 %A 萧淑琴 %A 刘宜华 %A 陈卫平 %A 代由勇 %A 姜山 %A 袁慧敏 %A 颜世申 %J 物理学报 %D 2005 %I %X 用射频溅射法制备了FeZrBCu软磁合金薄膜.研究了不同溅射功率对FeZrBCu薄膜软磁特性和巨磁阻抗效应的影响.用电子探针显微镜测量发现,当溅射功率为240W时,薄膜样品中Fe的原子含量为8732%,Cu的原子含量为29%.这种样品的矫顽力最小,为68A/m,饱和磁化强度约为111×1055A/m,软磁性能最佳,巨磁阻抗效应最大,溅态膜在 13MHz最大巨磁阻抗比纵向为17%,横向为11%.重点分析了阻抗的电阻、电感分量及横向有 效磁导率随频率的变化,得到在低频下主要是磁电感 %K Fe-based alloy %K films %K giant magneto-impedance effect
铁基合金, %K 薄膜, %K 巨磁阻抗效应 %U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=35264454D91C9F2D&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=318E4CC20AED4940&iid=E158A972A605785F&sid=0F1114F255AB647C&eid=BD667367F07B7EA7&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=1&reference_num=18