%0 Journal Article
%T The microstructure of hydrogenated microcrystalline silicon thin films studied by small-angle x-ray scattering<br>利用x射线小角散射技术研究微晶硅薄膜的微结构
%A Zhou Bing-Qing
%A Liu Feng-Zhen
%A Zhu Mei-Fang
%A Gu Jin-Hu
%A Zhou Yu-Qin
%A Liu Jin-Long
%A Dong Bao-Zhong
%A Li Guo-Hua
%A Ding Kun
%A <br>周炳卿
%A 刘丰珍
%A 朱美芳
%A 谷锦华
%A 周玉琴
%A 刘金龙
%A 董宝中
%A 李国华
%A 丁 琨
%J 物理学报
%D 2005
%I 
%X 采用x射线小角散射（SAXS）技术研究了由射频等离子体增强化学气相沉积（rf-PECVD）、 热丝化学气相沉积(HWCVD)和等离子体助热丝化学气相沉积(PE-HWCVD)技术制备的微晶硅（ μc-Si:H）薄膜的微结构.实验发现，在相同晶态比的情况下，PECVD沉积的μc-Si:H薄膜微 空洞体积比小，结构较致密，HWCVD沉积的μ-Si:H薄膜微空洞体积比大，结构较为疏松，PE -HWCVD沉积的μc-Si:H薄膜，由于等离子体的敲打作用，与HWCVD样品相比，微结构得到明 显改善.采用HWCVD二步法和PE-HWCVD加适量Ar离子分别沉积μc-Si:H薄膜，实验表明，微结 构参数得到了进一步改善.45°倾角的SAXS测量显示，不同方法制备的μc-Si:H薄膜中微空 洞分布都呈各向异性.红外光谱测量也证实了SAXS的结果.
%K hydrogenated microcrystalline silicon thin film
%K microstructure
%K micro-voids
%K sm all-angle x-ray scattering<br>微晶硅薄膜，
%K 微结构，
%K 微空洞，
%K x射线小角散射
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=3EF849BA3FE0E453&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=318E4CC20AED4940&iid=94C357A881DFC066&sid=CAA85A92D7D80185&eid=FBEA8C467B1EDA46&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=1&reference_num=8