%0 Journal Article
%T Effects of deposition conditions on infrared spectroscopic ellipsometry of CVD diamond films<br>沉积工艺条件对金刚石薄膜红外椭偏光学性质的影响
%A Su Qing-Feng
%A Liu Jian-Min
%A Wang Lin-Jun
%A Shi Wei-Min
%A Xia Yi-Ben
%A <br>苏青峰
%A 刘健敏
%A 王林军
%A 史伟民
%A 夏义本
%J 物理学报
%D 2006
%I 
%X 采用红外椭圆偏振光谱仪对不同工艺条件下制备的CVD金刚石薄膜在红外波长范围内的光学参量进行了测量，分析了工艺条件对金刚石薄膜红外光学性质的影响.获得了最佳的沉积工艺参数，优化了薄膜的制备工艺.结果表明薄膜的折射率和消光系数与薄膜质量密切相关，当温度为750℃，碳源浓度为0.9%和压强为4.0 kPa时，金刚石薄膜的红外椭偏光学性质最佳，折射率平均值为2.385，消光系数在10-4范围内，在红外波段具有良好的透过性.
%K film optics
%K infrared optical properties
%K deposition conditions
%K diamond films<br>薄膜光学
%K 红外光学性质
%K 工艺条件
%K 金刚石薄膜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=29C01820AF130035&yid=37904DC365DD7266&vid=E514EE58E0E50ECF&iid=F3090AE9B60B7ED1&sid=43322208566D13D5&eid=3D9A3F591A716CFB&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=1&reference_num=28