%0 Journal Article
%T Structure and magnetic properties of Co80Cr20/Ti90Cr10 film prepared by pulsed-laser deposition<br>脉冲激光沉积制备的Co80Cr20/Ti90Cr10薄膜的结构与磁性
%A Zeng Fan-Hao
%A Zhang Xiao-Zhong
%A <br>曾凡浩
%A 章晓中
%J 物理学报
%D 2007
%I 
%X 用脉冲激光沉积(PLD)的方法在硅单晶基片上制备了Ti90Cr10和Co80Cr20/Ti90Cr10薄膜，用XRD研究了Ti90Cr10薄膜的晶体结构与制备温度的关系，结果表明随着温度升高，薄膜从非晶态逐步向晶态转化，并且计算了Ti90Cr10薄膜的晶粒大小以及晶格常数. 利用透射电镜对Ti90Cr10薄膜进行了表面和截面形貌的表征. 采用纳米压痕仪对Ti90Cr10薄膜的硬度和膜基界面结合力进行了分析，表明薄膜的硬度和膜基结合力随制备条件改变有所变化，制备温度增加，薄膜的硬度和膜基结合力随之增加. 利用Ti90Cr10薄膜作为中间层，用PLD制备了Co80Cr20磁性层，获得了很好的垂直磁化性质，膜厚减小，矫顽力和矩形比有所增加，600℃真空条件下制备的Co80Cr20(8 nm)/Ti90Cr10(14 nm)薄膜的矫顽力为65.25 kA/m，矩形比为0.86，并且讨论了Co80Cr20/Ti90Cr10薄膜的磁化性质.
%K magnetic film
%K Ti_90Cr_10
%K boundary adhesion strength
%K Co_80Cr_20<br>磁性薄膜，
%K Ti90Cr10，
%K 界面结合力，
%K Co80Cr20
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=A0C50708C57CA030&yid=A732AF04DDA03BB3&vid=014B591DF029732F&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=91BAD12CFABB3251&eid=652E7E360EBE3082&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=20