%0 Journal Article
%T Study on the Oxidative Characterization of Lpe HgCdTe Film Surface by XPS<br>液相外延碲镉汞薄膜表面氧化特性的光电子能谱研究
%A LI YI
%A YI XIN-JIAN
%A CAI LI-PING
%A <br>李毅
%A 易新建
%A 蔡丽萍
%J 物理学报
%D 2000
%I 
%X 利用X射线光电子谱对液相外延HgCdTe薄膜表面氧化特性进行了 研究，对经不同工艺过程处理的HgCdTe表面进行了测量、分析，结果表明碲镉汞表面经溴 无水乙醇溶液腐蚀后，再用乳酸乙二醇溶液对表面进行处理，可获得氧化物极少甚至无氧 化的HgCdTe表面.说明HgCdTe表面钝化前的预处理直接影响钝化层/HgCdTe的界面特性. 
%K 碲镉汞薄膜
%K 表面氧化特性
%K 光电子能谱
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=74C9781B29F7986AF60C8BD774DBF838&yid=9806D0D4EAA9BED3&vid=2A3781E88AB1776F&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=7C72DBC13F2D71EC&eid=58F693790F887B3B&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=1