%0 Journal Article
%T Fabrication of intrinsic microcrystalline silicon thin films used for solar cells and its structure<br>太阳电池用本征微晶硅材料的制备及其结构研究
%A Zhang Xiao-Dan
%A Zhao Ying
%A Gao Yang-Tao
%A Zhu Feng
%A Wei Chang-Chun
%A Sun Jian
%A Geng Xin-Hua
%A Xiong Shao-Zhen
%A <br>张晓丹
%A 赵 颖
%A 高艳涛
%A 朱 锋
%A 魏长春
%A 孙 建
%A 耿新华
%A 熊绍珍
%J 物理学报
%D 2005
%I 
%X 采用VHF-PECVD技术制备了系列不同硅烷浓度和反应气压的微晶硅薄膜.运用拉曼散射光谱和 x射线衍射对制备的材料进行了结构分析.在实验研究的范围内，制备材料的晶化程度随硅烷 浓度的增加而降低.XRD的测试结果表明：制备的微晶硅材料均体现了(220)方向择优.应用在 电池的有源层中，制备出了效率达7.1%的单结微晶硅太阳电池，电池的结构是glass/ZnO/p( μc-Si:H)/i(μc-Si:H)/n(a-Si:H/Al)，没有ZnO背反射电极，有源层的厚度仅为1.2μm.
%K intrinsic microcrystalline silicon thin film
%K Raman spectra
%K x-ray diffraction<br>本征微晶硅薄膜，拉曼光谱，x射线衍射
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=A6F4B6981F42A040&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=318E4CC20AED4940&iid=F3090AE9B60B7ED1&sid=4E4B52770ED37CB8&eid=B83C2103DE8A50E7&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=3&reference_num=8