%0 Journal Article
%T Preparation of diamond-like carbon films by high-intensity pulsed-ion-beam deposition at room temperature<br>利用强流脉冲离子束技术在室温下沉积类金刚石薄膜研究
%A Mei Xian-Xiu
%A Xu Jun
%A Ma Teng-Cai
%A <br>梅显秀
%A 徐军
%A 马腾才
%J 物理学报
%D 2002
%I 
%X 利用强流脉冲离子束技术在Si基体上快速大面积沉积类金刚石(DLC)薄膜.电压为250kV,束流密度为250A·cm-2,脉宽为80—100ns,能流密度为5J·cm-2的离子束(主要由碳离子和氢离子组成)聚焦到石墨靶材上,使石墨靶材充分蒸发和电离,在石墨靶的法线方向的Si基体上沉积非晶的碳薄膜.Raman谱分析显示,所沉积薄膜为类金刚石薄膜.随着靶材与基体之间距离的减小,薄膜中sp3碳成分含量增加,同时硬度值也有所增大,并且薄膜的摩擦系数和表面粗糙度增加.x射线光电子能谱(XPS)分析显示薄膜中的sp3碳
%K HIPIBs
%K DLC film
%K XPS
%K Raman spectra analysis<br>强流脉冲离子束
%K 类金刚石薄膜
%K XPSRaman谱分析
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=19667ACD0453C924&yid=C3ACC247184A22C1&vid=987EDA49D8A7A635&iid=5D311CA918CA9A03&sid=B56549D8EAA47873&eid=3907BD093A0059AA&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=7&reference_num=20