%0 Journal Article
%T Structure and infrared absorption characterizations of yttrium silicides formed by ion beam synthesis<br>离子束合成钇硅化物的结构及红外谱特征
%A Wang Wen-Wu
%A Xie Er-Qing
%A He De-Yan
%A <br>王文武
%A 谢二庆
%A 贺德衍
%J 物理学报
%D 2003
%I 
%X 将稀土金属钇离子注入到n型单晶Si(111)中制备出钇硅化物埋层.利用x射线衍射、卢瑟福背散射和傅里叶红外吸收谱测量分析了样品的结构、原子的埋层分布和振动模式.结果表明，Y离子在注入过程中已与基底中的Si原子形成了YSi2结构相.真空下的红外光辐照处理促使YSi2择优取向生长，埋层中Si与Y的平均原子浓度比由24下降为20，与六方YSi2的化学计量比一致.还给出了钇硅化物的特征红外吸收谱.
%K yttrium silicide
%K ion implantation
%K infrared irradiation treatment
%K characteristic infrared absorption spectrum<br>钇硅化物，
%K 离子注入，
%K 红外光辐照处理，
%K 特征红外光谱
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=6A10BD043948D8DA&yid=D43C4A19B2EE3C0A&vid=286FB2D22CF8D013&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=FD7C952458BFB5D8&eid=FBCA02DBD05BD4EA&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=9