%0 Journal Article
%T In Situ Analysis of High Energetic Ion RBS Combined with Low Energetic Ion Sputtering for Thin Films<br>用低能离子溅射剥层和高能离子背散射组合方法进行薄膜原位分析
%A LIU BO
%A JIANG LEI
%A ZONG XIANG-FU
%A HE MIAN-HONG
%A ZHAO GUO-QING
%A ZHOU ZHU-YING
%A <br>刘　波
%A 姜　蕾
%A 周筑颖
%A 贺勉鸿
%A 赵国庆
%A 宗祥福
%J 物理学报
%D 2000
%I 
%X 介绍了将离子枪组合于卢瑟福背散射分析靶室中构成Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ／ＲＢＳ原位分析实验装置，用低能离子溅射剥层与高能离子背散射组合对薄膜样品进行成分和深埋层分析方法．给出了对样品分析的三个例子．对Ａｕ／Ｓｉ样品的分析着重讨论了Ａｕ在Ａｒ＋溅射剥层时的溅射速率；对Ｓｉ／ＧｅＳｉ／Ｓｉ和ＷＳｉｘ／ＳｉＯ２／Ｓｉ样品的深埋层分析，提高了样品分析的深度分辨率．讨论了这一Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ／ＲＢＳ组合分析方法的优缺点和在薄膜材料研究中可能的应用
%K 薄膜原位分析
%K 低能离子溅射剥层
%K 高能离子背散射
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=FC5FABF19D1745D084F1AAAA9F5C1D91&yid=9806D0D4EAA9BED3&vid=2A3781E88AB1776F&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=F260CE035846B3B8&eid=954CE65414DD94CA&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=1&reference_num=3