%0 Journal Article
%T Optical gap of fluorinated amorphous carbon films<br>氟化非晶碳薄膜的光学带隙分析
%A Ye Chao
%A Ning Zhao-Yuan
%A Cheng Shan-Hua
%A Wang Xiang-Ying
%A <br>叶超
%A 宁兆元
%A 程珊华
%A 王响英
%J 物理学报
%D 2002
%I 
%X 研究了CHF3C6H6沉积的氟化非晶碳(αC∶F)薄膜的光学带隙.发现αC∶F薄膜光学带隙的大小取决于薄膜中C—F,CC的相对含量.这是由于CC形成的窄带隙π键和C—F形成的宽带隙σ键含量的相对变化,改变了带边态密度分布的结果.在微波功率为140—700W、沉积气压为01—10Pa、源气体CHF3∶C6H6流量比为1∶1—10∶1条件下沉积的αC∶F薄膜,光学带隙在176—398eV之间
%K fluorinated amorphous carbon film
%K optical band gap
%K bond configuration<br>氟化非晶碳(αC∶F)薄膜
%K 光学带隙
%K 键结构
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=C7C9CC4922979755&yid=C3ACC247184A22C1&vid=987EDA49D8A7A635&iid=708DD6B15D2464E8&sid=16D0D605A1E41A33&eid=E5EF7582ACC900A3&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=2&reference_num=20