%0 Journal Article
%T CHEMICAL BONDING STRUCTURE OF FLUORINATED AMORPHOUS CARBON FILMS PREPARED BY ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION<br>电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积a-CFx薄膜的化学键结构
%A NING ZHAO-YUAN
%A CHENG SHAN-HUA
%A YE CHAO
%A <br>宁兆元
%A 程珊华
%A 叶超
%J 物理学报
%D 2001
%I 
%X 使用CHF3和C6H6混合气体做气源,在一个电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积装置中制备了氟化非晶碳(a-CFx)薄膜.利用发射光谱研究了等离子体中形成的各种碳氟、碳氢基团随放电宏观参量的变化规律,对薄膜做了傅里叶变换红外光谱和X射线光电子能谱分析,证实等离子体中的CF2,CF和CH基团是控制薄膜生长、碳/氟成分比和化学键结构的主要前驱物
%K a-CFx film
%K electron cyclotron resonance<br>氟化非晶碳薄膜
%K 电子回旋共振等离子体
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=A2F37255CE228943&yid=14E7EF987E4155E6&vid=771152D1ADC1C0EB&iid=38B194292C032A66&sid=CDC418F38C4BFD60&eid=F16C0F639D87527E&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=8&reference_num=10