%0 Journal Article
%T INFLUENCE OF ION ENERGY AND DEPOSITION TEMPERATURE ON THE SURFACE MORPHOLOGY OF CARBON FILMS DEPOSITED BY ION BEAMS<br>离子能量和沉积温度对离子束沉积碳膜表面形貌的影响
%A LIAO MEI-YONG
%A QIN FU-GUANG
%A CHAI CHUN-LIN
%A LIU ZHI-KAI
%A YANG SHAO-YAN
%A YAO ZHEN-YU
%A WANG ZHAN-GUO
%A <br>廖梅勇
%A 秦复光
%A 柴春林
%A 刘志凯
%A 杨少延
%A 姚振钰
%A 王占国
%J 物理学报
%D 2001
%I 
%X 利用质量分离的低能离子束沉积技术,得到了非晶碳膜.所用离子能量为50—200eV,衬底温度从室温到800℃.在沉积的能量范围内,衬底为室温时薄膜为类金刚石,表面非常光滑;而600℃下薄膜主要是石墨成分,表面粗糙.沉积能量大于140eV,800℃时薄膜表面分立着高度取向的、垂直衬底表面、相互平行的开口碳管.用高分辨电子显微镜看到了石墨平面的垂直择优取向,离子的浅注入和应力是这种优先取向的主要机理.
%K amorphous carbon
%K surface morphology
%K mass-selected low energy ion beam deposition<br>非晶碳
%K 表面形貌
%K 质量分离低能离子束
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=8B25A56F221B5B00&yid=14E7EF987E4155E6&vid=771152D1ADC1C0EB&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=8560D04B70E571A6&eid=F016DE22306D4D4A&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=16