%0 Journal Article
%T Deposition of vinyl acetic acid through the pulsed rf plasma polymerization<br>脉冲射频等离子体聚合沉积乙烯基乙酸
%A Zhang Jing
%A Feng Xiang-Fen
%A Xie Han-Kun
%A Shi Yun-Cheng
%A Pu Tian-Shu
%A <br>张 菁
%A 冯祥芬
%A 谢涵坤
%A 施芸城
%A 蒲天舒
%J 物理学报
%D 2003
%I 
%X 通过脉冲射频等离子体聚合方法获得乙烯基乙酸沉积薄膜，并用红外光谱、x射线光电子能 谱、表面张力、微分扫描量热分析及扫描电子显微镜等测试方法研究聚合沉积薄膜的化学结 构、表面物理形貌与脉冲放电条件的关系. 实验结果表明，采用脉冲放电，在脉冲占空比较 低时，能够保留较多的完整的单体分子官能团. 如果脉冲占空比较高或是采用连续波放电时 ，聚合沉积薄膜的化学结构与单体相比有较大改变. 聚合沉积薄膜在放置一段时间后表面为 规整的高度交联的网络状结构. 放电形式不同，结构有所区别. 因此可以根据实际需要，选 择不同的
%K plasma polymerization
%K pulsed rf discharge
%K vinyl acetic acid<br>等离子体聚合，
%K 脉冲射频放电
%K 乙烯基乙酸
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=55A0AC915A141379&yid=D43C4A19B2EE3C0A&vid=286FB2D22CF8D013&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=F69F61A42EF5D746&eid=6B11F480D189254A&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=4&reference_num=23