%0 Journal Article
%T 金属氧化物薄膜的多离子束反应共溅射模型(Ⅰ)——模型建立
%A 肖定全
%A 韦力凡
%A 李子森
%A 朱建国
%A 钱正洪
%A 彭文斌
%J 物理学报
%D 1996
%I 
%X 针对作者发明的多离子束反应共溅射技术,基于气体动力学原理,在稳恒溅射情况下,建立了多离子束多靶反应共溅射的基本模型,获得了薄膜沉积速率和薄膜成分与反应共溅射工艺参数之间的关系.该模型揭示了影响薄膜成分的本质参量.基于该模型,提出了调控溅射速率及薄膜成分的途径与方法.
%K 多离子束
%K 金属氧化物
%K 薄膜
%K 反应溅射
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=7411BF4698E83734743D5CE26C588904&yid=8A15F8B0AA0E5323&vid=94E7F66E6C42FA23&iid=0B39A22176CE99FB&sid=6C069F4B248105A5&eid=302684F6FB4B24FF&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=5