%0 Journal Article
%T 金刚石薄膜的光学透射率研究
%A 毛敏耀
%A 亢昌军
%A 王添平
%A 解健芳
%A 谭淞生
%A 王渭源
%A 章熙康
%A 金晓峰
%A 庄志诚
%J 物理学报
%D 1995
%I 
%X 以直流偏压增强的微波等离子体化学汽相淀积（ＣＶＤ）为成核手段，在未经金刚石粉研磨处理的抛光硅片上获得了１０＾１０ｃｍ＾－２的金刚石高密度成核。在成核条件相同的情况下，研究了微波等离子体ＣＶＤ生长金刚石薄膜工艺中甲烷浓度ｎ、衬底温度Ｔ、沉积气压Ｐ等生长参数对薄膜透射率有明显影响，而沉积气压的影响不大。同时，对于在ｎ＝０．７％，Ｔ＝８４０℃，Ｐ＝２０Ｔｏｒｒ条件下生长的厚度为０．８５μｍ的金刚石薄膜样
%K 金刚石薄膜
%K 光学透射率
%K 光学窗口
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=FCAE0A99323261C3F5EB1E6CCA3FB825&yid=BBCD5003575B2B5F&vid=1AE5323881A5ECDC&iid=9CF7A0430CBB2DFD&sid=AEA8CA70A6C58E24&eid=6F185A924223F19E&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=2&reference_num=4