%0 Journal Article
%T ORIENTED GROWTH OF LiNbO3 THIN FILMS ON AMORPHOUS SUBSTRATES IN A LOW ELECTRIC FIELD<br>低电场下LiNbO3薄膜在非晶衬底上的取向生长
%A WU ZHUANG-CHUN
%A HU WEI-SHENG
%A LIU JUN-MING
%A WANG MU
%A LIU ZHI-GUO
%A <br>吴状春
%A 胡卫生
%A 刘俊明
%A 王 牧
%A 刘治国
%J 物理学报
%D 1998
%I 
%X 报道了外加低电场和衬底温度对脉冲激光淀积法制备的LiNbO3薄膜取向的影响.在衬底温度为600℃和外加电场为7V/cm的条件下，在石英玻璃等非晶态衬底上获得了完全(001)取向的LiNbO3薄膜.在对具有自发极化的LiNbO3在电场作用下成核生长机制和温度对LiNbO3自发极化强度的影响进行分析的基础上，给出了低电场诱导铁电薄膜取向生长的物理依据.
%K 非晶衬底
%K 铁电薄膜
%K 低电场
%K 铌酸锂
%K 薄膜生长
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=CE7EBDE17DD089B752F3E1590D383FDE&yid=8CAA3A429E3EA654&vid=F4B561950EE1D31A&iid=0B39A22176CE99FB&sid=1DF3F9D75A12D97B&eid=5B5B75F4854B8331&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=1