%0 Journal Article
%T 用射频溅射方法制备的多晶ZnO薄膜的光响应与其结构变化
%A 张德恒
%A D.E.Brode
%J 物理学报
%D 1995
%I 
%X 用射频溅射方法在较高氧压下沉积的多晶的ZnO薄膜,其光响应主要由两部分组成:第一部分来源于膜内晶粒界面所吸附氧原子的光脱附,该部分光响应可使膜的电导率增加两个数量级且响应速度较快;第二部分来源于薄膜表面所吸附氧原子的光脱附,此光响应可使膜的电导率增加4一5个数量级,但响应速度非常缓慢.两部分光响应都来自薄膜的结构变化,膜的结构变化与膜所处环境中气体的种类,压强以及膜的温度有关.
%K 氧化锌薄膜
%K 光响应
%K 射频溅射
%K 多晶
%K 薄膜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=FCAE0A99323261C3436F0475FF14B500&yid=BBCD5003575B2B5F&vid=1AE5323881A5ECDC&iid=5D311CA918CA9A03&sid=4882B246E68CA8CB&eid=D103793C8B25974D&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=5