%0 Journal Article
%T STUDIES OF INTERFACE ATOMIC STRUCTURE OF Al2O3/Al(100) BY MeV ION SCATTERING AND CHANNELING<br>氧化铝与Al(100)基体间界面原子结构研究
%A CHENG HUAN-SHENG
%A YAO XIAO-WEI
%A YANG FU-JIA
%A <br>承焕生
%A 要小未
%A 杨福家
%J 物理学报
%D 1993
%I 
%X 本文介绍了用MeV离子散射和沟道效应研究单晶铝表面无定型氧化层与基体之间界面原子结构的方法。报道了Al2O3/Al(100)界面原子结构的实验结果。实验表明,在纯氧气氛围中400℃下生成的氧化铝膜,铝和氧原子浓度比例严格为2与3之比;Al2O3膜和Al(100)基体之间的界面极其陡峭,氧化铝膜下Al(100)基体表面的再构层不大于一个原子层。由实验测量与用Monte Carlo方法计算结果比较,得到再构层原子离开原来晶
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=892BB804565CFE4240324A5B7BD863DA&yid=D418FDC97F7C2EBA&vid=ECE8E54D6034F642&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=CEBE8025959B35C7&eid=CA10C709B736BBEA&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0