%0 Journal Article
%T 沉积在α-Al２Ｏ3分形基底上Ag薄膜的特性
%A 许宇庆
%A 叶高翔
%A 王劲松
%A 陶向明
%A 张其瑞
%J 物理学报
%D 1994
%I 
%X 报道了采用磁控溅射法在α－Ａｌ２Ｏ3分形基底上沉积Ａｇ薄膜表面的形貌、结晶状态以及其Ｖ－Ｉ特性．结果表明：分形的Ａｌ２Ｏ3基底导致Ａｇ薄膜具有起伏不平的结构、较差的结晶状态并且存在大量的孔洞，它们同样受基底温度和薄膜厚度的影响．在一定的厚度范围内，Ａｇ薄膜呈现反常的非线性Ｉ（Ｖ）特性，其行为也受薄膜厚度、基底温度和测试环境的强烈影响．
%K 银
%K 薄膜
%K 分形薄膜
%K 磁控溅射
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=2BC04F7FEA408E8080015B127B5DFA5E&yid=3EBE383EEA0A6494&vid=BE33CC7147FEFCA4&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=EEBB803F60D7DC4B&eid=D291DCA663E1D24D&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=2