%0 Journal Article
%T EFFECT OF THE BOTTOM ELECTRODES ON THE STRUCTURE AND ELECTRIC PROPERTIES OF FERROELECTRIC THIN FILMS<br>铁电薄膜底电极对薄膜结构与电性能的影响
%A LU DE-XIN
%A LI ZUO-YI
%A LIU JIAN-SHE
%A HUANG LONG-BO
%A LIANG JUN-WEN
%A <br>卢德新
%A 李佐宜
%A 刘建设
%A 黄龙波
%A 梁俊文
%J 物理学报
%D 1994
%I 
%X 研究了电极材料（Ｐｔ／Ｔｉ）对铁电ＰＬＺＴ（７．５／６５／３５）陶瓷薄膜结构和性能的影响．认为在Ｐｔ层厚度一定时，Ｔｉ层的厚度对铁电薄膜的结构和性能有显著影响．当Ｔｉ层过厚或过薄时，铁电薄膜的结构较差；而当Ｔｉ层的厚度适中时，则铁电薄膜的显向下微结构均匀，电性能较好，典型的剩余极化强度和矫顽场分别为２７．８μＣ·ｃｍ-2和６５．１ｋＶ·ｃｍ-1．
%K 铁电薄膜
%K 陶瓷
%K 薄膜
%K 结构
%K 电性能
%K 电极材料
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=2C75B2B781478156C3844BC8DC815DCE&yid=3EBE383EEA0A6494&vid=BE33CC7147FEFCA4&iid=59906B3B2830C2C5&sid=274950DACC45EFF5&eid=4ED782DFCB910AF4&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=3&reference_num=4