%0 Journal Article
%T ELECTROLYTE ELECTROREFLECTANCE (EER) SPECTROSCOPY OF ION IMPLANTED SILICON LAYER<br>硅离子注入层的电场调制反射光谱
%A QIAN YOU-HUA
%A CHEN LIANG-YAO
%A <br>钱佑华
%A 陈良尧
%J 物理学报
%D 1982
%I 
%X 结合剥层技术,对略高于临界剂量的P+注入p-Si层,进行了电解液电场调制反射(以下简称EER)光谱研究,对非均匀的结构无序材料的光学测量,提出采用“特效波长”的建议,硅的这一波长是E1,E1+△1能区的349O?(hω≈3.55eV),c-Si和α-Si对3490?光波的吸收系数均等于106cm-1,将((△R)/R)3.55ev按深度x的分布同无序度的
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=F4B771A8DE0874B7E17FFA0C8942AA9C&yid=3F3D540C9B7906DE&vid=4AD960B5AD2D111A&iid=94C357A881DFC066&sid=6C62BFE34266FA92&eid=E4BEEBB9A80BC67E&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0