%0 Journal Article
%T FABRICATION OF JOSEPHSON TUNNEL JUNCTIONS AND STUDIES ON ITS FOUR-TERMINAL RESISTANCE<br>约瑟夫逊隧道结的制造工艺及其四端子电阻的研究
%A GAO JIE
%A ZHANG YU-ZHEN
%A CHEN YONG-KUI
%A LING ZENG-BO
%A <br>高洁
%A 张玉珍
%A 陈永魁
%A 凌增柏
%J 物理学报
%D 1978
%I 
%X 一、引言 为了得到性能良好的约瑟夫逊铅隧道结,两层铅膜间的氧化层必须均匀、致密,厚度约为10—20埃,其间没有大面积漏洞,也不允许夹杂着氧化铅以外的大颗粒杂质。但是直接观测这一势垒层的状态和铅、氧离子的扩散活动是很困难的,因而广泛采用的判据是反映了氧化层状态的宏观隧道电阻R_T。大量的实验表明,对于性能良好的结,R_T应为数毫欧到数百毫欧。在结的储存过程中,伴随着铅膜与氧化层内原子与离子的扩散,结
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=B1191BDF07D0CD2B&yid=EA437CDB73D9759D&vid=DB817633AA4F79B9&iid=0B39A22176CE99FB&sid=D5C73DEF4CF8FAF3&eid=E089FDF3CDAE8561&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0