%0 Journal Article
%T 磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积Ti-Si-N薄膜摩擦磨损性能对比研究
%A 马青松
%A 马胜利
%A 徐可为
%A 徐洮
%J 摩擦学学报
%D 2004
%X 分别利用磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积(PCVD)技术制备了Ti-Si-N薄膜，测定了2种Ti-Si-N薄膜的显微硬度，并采用球一盘式高温摩擦磨损试验机对比考察了其高温摩擦磨损性能．结果表明，当薄膜中Si含量(原子分数)约为10％时，2种薄膜的显微硬度达到最大值；2种Ti-Si-N薄膜的耐磨性能同其硬度之间不存在对应关系，其中采用PCVD方法制备的Ti-Si-N薄膜的高温抗磨性能较优；2种薄膜在高温下的摩擦系数均有所降低，这归因子高温下氧化膜的润滑作用。
%K 磁控溅射
%K 脉冲直流化学气相沉积（PCVD）
%K Ti-Si-N薄膜
%K 摩擦磨损性能
%U http://www.tribology.com.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20040595&flag=1