%0 Journal Article
%T 阵列式薄膜锰铜计的动态压阻响应研究
%A 滕林
%A 杨邦朝
%A 杜晓松
%A 周鸿仁
%A 崔红玲
%J 高压物理学报
%P 279-282
%D 2004
%R 10.11858/gywlxb.2004.03.014
%X 利用直流磁控溅射薄膜工艺制备阵列式薄膜锰铜压阻计，以氧化铝作为基片和绝缘封装材料。在结构上，4个具有相同阻值的薄膜锰铜计在同一氧化铝基片上呈对称分布。51.72GPa压力下的动态加载实验表明，4个计的压阻一致性好，无高压旁路效应，验证了薄膜锰铜压阻计动态测试的准确性和可靠性。
%K 锰铜薄膜
%K 压阻系数
%K 阵列式
%K 热处理
%U http://www.gywlxb.cn/CN/abstract/abstract503.shtml