%0 Journal Article
%T 多晶硅发射区晶体管（PET）温度特性的解析理论分析
%A 马平西
%A 张利春
%A 王阳元
%J 半导体学报
%D 1996
%I 
%X 本文在已提出的综合解析模型基础上，引入各相关参数特别是多晶－单晶之间的界面态俘获截面与温度关系的实验结果，给出了分析ＰＥＴ电流增益与温度关系的解析理论．以此为基础，详细分析了少子在多晶－单晶之间的界面氧化层两边界面态上的复合和少于以热发射的方式跃过杂质分凝和界面氧化层电荷形成的势垒并隧穿界面氧化层两种机理对ＰＥＴ电流增益随温度变化的影响，首次成功地把ＨＦ器件电流增益在高温区呈现出比普通金属接触晶体管温度系数大的实验结果归因于少子在界面氧化层两边的复合以及俘获截面与温度的关系σｐ．∞Ｔ－２．７，分析预示了界
%K PET
%K 晶体管
%K 温度特性
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=FFEC5111028CDEAB&yid=8A15F8B0AA0E5323&vid=BCA2697F357F2001&iid=0B39A22176CE99FB&sid=03F1579EF92A5A32&eid=4BB057F167CF3A60&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=6