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X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY STUDY ON THE HOLE STATES IN YBa2Cu3O7 SUPERCONDUCTOR
YBa2Cu3O7超导体中空穴状态的X射线光电子能谱研究

Wang Nan-lin,Tan Ming-qiu,Zhao Zhan-chun,Wang Jing-song,Sha Jian,Liu Xian-ming,Ji Ming-rong,Zhang Qi-rui,
王楠林
,谭明秋,赵展春,王劲松,沙健,刘先明,季明荣,张其瑞

物理学报 , 1991,
Abstract: XPS measurements have been performed on the orthogonal single phase YBa2Cu3O7 superconductor. The higher valence-like state of Cu is observed clearly. The electronic states corresponding to the peaks in Cu2p and O1s XPS are discussed. It is suggested that the extra holes due to the excess oxygen are created on the O2p orbit. The higher valence-like state of Cu corresponds to the combination of Cu3d9L and Cu3d10L3 states.
Ta/NiO/NiFe/Ta的磁性及界面的结构
于广华,柴春林,朱逢吾,肖纪美
科学通报 , 2000,
Abstract: 利用磁控反应溅射方法以Ta作为缓冲层制备了Ta/NiO/NiFe/Ta薄膜,磁性分析表明,该结构薄膜的交换耦合场为9.6′103A/m,但是所需NiO的实际厚度增加了.采用X射线光电子能谱研究了Ta/NiO/Ta界面,并进行计算机谱图拟合分析.结果表明界面反应是影响层间耦合的一个重要因素.在Ta/NiO界面处发生了反应2Ta+5NiO=5Ni+Ta2O5,使得界面有“互混层”存在.X射线光电子能谱深度剖析表明Ni+NiO的混合层厚度约8~10nm,从而导致NiO钉扎实际厚度增加.
磷溶液浓度与针铁矿表面吸附磷的化学状态
刘凡
科学通报 , 1994,
Abstract: 磷是植物生长的三要素之一,铁、铝氧化物对磷的固定是可变电荷土壤中磷有效性低的主要原因.对有关机理的研究限于从平衡吸附、追加吸附和解吸等常规的化学分析,结合氧化铁表面羟基类型和测定电荷量进行,认为磷酸盐的浓度影响着铁、铝氧化物对磷吸附的牢固程度及其结合方式,高浓度时,氧化铁与磷形成单核(基)配合物,易于解吸;低浓度时,则形成双核(基)配合物,难以解吸.但就不同浓度磷酸根在铁、铝氧化物表面化学状态的直接
磁透镜引起的氯化银谱峰异常位移及其在X射线光电子能谱成象分析中的应用
赵良仲,刘芬
分析化学 , 2001,
Abstract: 用X射线光电子能谱(XPS)分析了与样品托有良好电接触的银片及其上面的AgCl.观察到在使用样品磁透镜和非单色化X射线源的实验条件下不导电的AgCl的电子峰产生异常大的谱峰位移,还发现这种异常谱峰位移可以应用于XPS成象分析,以提高化学位移很小的元素化学态(如Ag0和Ag+)的XPS象的分辨能力.
砷化镓半导体表面自然氧化层的X射线光电子能谱分析
任殿胜,王为,李雨辰,严如岳
分析化学 , 2003,
Abstract: 用X射线光电子能谱(XPS),测量了Ga3d和As3d光电子峰的结合能值,指认了砷化镓(GaAs)晶片表面的氧化物组成,计算了表面氧化层的厚度,定量分析了表面的化学组成;比较了几种不同的砷化镓晶片表面的差异.结果表明:砷化镓表面的自然氧化层主要由Ga2O3、As2O5、As2O3和单质As组成,表面镓砷比明显偏离理想的化学计量比,而且,氧化层的厚度随镓砷比的增大而增加;溶液处理后,砷化镓表面得到了改善.讨论了可能的机理.
石墨炉原子吸收分析中锰的原子化过程探讨
祖莉莉,李安模
分析化学 , 1993,
Abstract: 本文采用计算机联机技术,测定并计算了锰原子吸收的时间分辨信号,得出在信号的初始几百毫秒为一级反应动力学过程,在升温速率较小的近恒温条件下为零级反应动力学过程。借助探针技术对石墨表面进行X射线光电子能谱(XPS)分析,表明锰在石墨炉中的原子化经过锰的高价氧化态到低价氧化态,最后氧化锰气相分解生成锰原子。
ni在zro2(111)薄膜表面的生长、电子结构及热稳定性
韩永,徐倩,鞠焕鑫,朱俊发
物理化学学报 , 2015,
Abstract: 利用x射线光电子能谱、紫外光电子能谱和低能电子衍射研究了ni纳米颗粒在zro2(111)薄膜表面的生长模式、电子结构及热稳定性.zro2(111)薄膜外延生长于pt(111)单晶表面,厚度约为3nm.结果表明,当ni气相沉积到zro2(111)薄膜表面上时,遵循stranski-krastanov生长模式,即先二维生长至0.5ml(monolayer),然后呈三维岛状生长.随着覆盖度的减小,ni2p3/2峰逐渐向高结合能位移.利用俄歇参数法分析发现,引起该峰向高结合能位移的主要原因来源于终态效应的贡献,但在低的ni覆盖度时,也有部分初态效应的贡献,说明ni在zro2表面初始生长时,两者存在较强的界面相互作用,ni向zro2衬底传递电荷,形成带部分正电荷的niδ+.两种不同覆盖度(0.05和0.5ml)的ni/zro2(111)模型催化剂热稳定性研究表明,当温度升高时,ni逐渐被氧化成ni2+,并伴随着向zro2衬底的扩散.本文从原子水平上认识了ni与zro2表面的相互作用和界面结构,为理解实际zro2担载的ni催化剂结构提供了重要的依据.
X-ray photoelectron spectroscopy analysis of the effect of thickness on the transformation temperature of NiTi alloy thin films
NiTi合金薄膜厚度对相变温度影响的X射线光电子能谱分析

Li Yong-Hu,Liu Chang-Sheng,Meng Fan-Ling,Wang Yu-Ming,Zheng Wei-Tao,
李永华
,刘常升,孟繁玲,王煜明,郑伟涛

物理学报 , 2009,
Abstract: 采用X射线衍射和X射线光电子能谱实验手段对不同厚度的NiTi薄膜相变温度的变化进行了分析.结果表明在相同衬底温度和退火条件下,3?μm厚度的薄膜晶化温度高于18?μm厚度的薄膜.衬底温度越高,薄膜越易晶化,退火后薄膜奥氏体相转变温度As越低.薄膜的表面有TiO2氧化层形成,氧化层阻止了Ni原子渗出;膜与基片的界面存在Ti2O3和NiO.由于表面和界面氧化层的存在,不同厚度的薄膜内层的厚度也不同,因而薄膜越薄,Ni原子的含量就越高.Ni原子的含量的不同会影响薄膜的相变温度.
Ⅱ代像增强器等效背景噪声特性的研究
常本康,雷远清,车晶,郭良,崔开源
兵工学报 , 2001,
Abstract: ?该文用XPS分析了MCP电极表面以及Ⅱ代像增强器MCP电极表面成份。结果表明,Ⅱ代像增强器MCP电极表面碱金属与铅的含量达9.69%。这是Ⅱ代增强器等效背景噪声的主要来源。用加热器控制了Ⅱ代像增强器制备过程中的碱金属流场和碱金属蒸气对MCP的污染,从而使Ⅱ代像增强器信噪比达5.06。
电子能谱线形分析研究碳物种的化学状态
朱永法,郑斌,姚文清,叶小燕,曹立礼
分析化学 , 1999,
Abstract: 利用XIS的Cls携上峰,X线激发俄歇线形,XPS价带谱以及俄歇电子能谱的CKLL线形研究了几种碳材料的化学状态和电子结构.研究结果表明:XPS的携上效应可以鉴别不同结构的碳材料.XAES的化学位移和线形也可以有效地研究各种不同的碳材料的成键方式.XPS的价带谱也是研究固体表面电子结构的一种有效方法,对碳材料的研究也很有效.AES的CKLL俄歇线形非常适合金属碳化物的鉴别.
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