oalib

Publish in OALib Journal

ISSN: 2333-9721

APC: Only $99

Submit

Any time

2019 ( 19 )

2018 ( 379 )

2017 ( 408 )

2016 ( 444 )

Custom range...

Search Results: 1 - 10 of 23840 matches for " 齐尚奎 "
All listed articles are free for downloading (OA Articles)
Page 1 /23840
Display every page Item
用X-光电子能谱(XPS)研究MoS_2晶体表面的氧化

摩擦学学报 , 1982,
Abstract: 作者利用XPS考察了天然MoS_2晶体表面几个分子层,在空气和真空中加热以及在各种气氛条件下的氧化情况。结果表明,在空气介质条件下,随着温度上升S~(2-)浓度减小,Mo~(4 )向高价态变化。在真空中亦然,与空气中同种情况相比,S~(2-)随温升富集在表面,Mo~(4 )则看不到多少变化。S~(2-)的浓度变化和化学价态变化对润滑性有着重要的影响,认识到MoS_2的氧化是润滑剂失效的重要原因之一。
MoS_2摩擦表面氧化与电子转移

科学通报 , 1994,
Abstract: MOS_2是优良的固体润滑材料,在摩擦过程中受到压应力、剪应力和摩擦热等环境因素的影响而导致表面氧化失效.用XPS技术对摩擦表面化合物的解析普遍认为是由Mo~(4+)和Mo~(6+)组成的混合物,并认识别MOS_2的失效造成硫原子的流失,继而Mo~(4+)更容易氧化成Mo~(6+).但是,Mo~(4+)转变成Mo~(6+)的反应历程迄今仍未澄清.我们采用电子自旋共振谱(ESR)和X-射线光电子谱(XPS)技术,研究Mo~(4+)向Mo~(6+)的反应历程时存在有Mo~(5+)的过渡态,Mo~(5+)进一步与氧作用生成稳定的Mo~(6+),并以MoO_3形式存在,因此,摩擦表面存在着Mo原子的多种化学状态.MOS_2摩擦表面化合物的形成,是Mo4d轨道上的电子转移过程.
用X-光电子能谱(XPS)研究MoS_2晶体表面的氧化

摩擦学学报 , 1982,
Abstract: 作者利用XPS考察了天然MoS_2晶体表面几个分子层,在空气和真空中加热以及在各种气氛条件下的氧化情况。结果表明,在空气介质条件下,随着温度上升S~(2-)浓度减小,Mo~(4)向高价态变化。在真空中亦然,与空气中同种情况相比,S~(2-)随温升富集在表面,Mo~(4)则看不到多少变化。S~(2-)的浓度变化和化学价态变化对润滑性有着重要的影响,认识到MoS_2的氧化是润滑剂失效的重要原因之一。
Study of Structural Changes of Fatty Acid and Surface Modified MoS2 Nanoparticle-LB Films by XPS
脂肪酸及表面修饰MoS2纳米微粒LB膜在摩擦过程中结构变化的XP …

张平余,
摩擦学学报 , 2000,
Abstract: 用X射线光电子能谱(XPS)研究了玻璃基体上沉积脂肪酸及二烷基二硫代硫酸(DDP)修饰的MoS2纳为微粒LB膜摩擦前的结构变化,结果表明:二十酸LB膜经一定次数摩擦后其结构发生明显变化,摩擦后C-H链的比例降低,而极性基团的比例显著增加,这可归因于其在摩擦力作用下发生诸如转移及有序化转变等一系列化学变化,表面修饰MoS2微粒LB膜摩擦前后结构不发生明显变化,且经一定次数摩擦后其磨痕上仍可检测到Mdi
脂肪酸及表面修饰MoS2纳米微粒LB膜在摩擦过程中结构变化的XP …
张平余,
摩擦学学报 , 2000,
Abstract: 用X射线光电子能谱(XPS)研究了玻璃基体上沉积脂肪酸及二烷基二硫代硫酸(DDP)修饰的MoS2纳为微粒LB膜摩擦前的结构变化,结果表明:二十酸LB膜经一定次数摩擦后其结构发生明显变化,摩擦后C-H链的比例降低,而极性基团的比例显著增加,这可归因于其在摩擦力作用下发生诸如转移及有序化转变等一系列化学变化,表面修饰MoS2微粒LB膜摩擦前后结构不发生明显变化,且经一定次数摩擦后其磨痕上仍可检测到Mdi
二硫化钼表面氧化行为的研究(Ⅱ)—二硫化钼摩擦表面氧化与电子转…
,薛群基
摩擦学学报 , 1994,
Abstract: 利用电子自旋共振谱和X射线光电子能谱研究了二硫化钼MoS2摩擦表面的氧化和电子转,发现MoS2在摩擦过程中是以Mo^4+经由Mo^5+过渡态继而与氧作用生成稳定的Mo^6+,并且是以MoO3的形式存在,证明MoS2的摩擦表面除有一般认为的Mo^4+和Mo^6+这两种化学状态以外,还有Mo^5+自由基离子这种从未发现的中间态。Mo^5+是4d^1电子构型,其在室温下于空气或氧气中是稳定的,然而在摩擦
摩擦表面原位分析试验装置的进展
,薛群基
摩擦学学报 , 1989,
Abstract: 摩擦学表面现象的研究,主要是对表面形貌和表面或界面的组成与化学状态的分析。为了从原子或分子水平研究摩擦学的本质,一些实验室建立起了不同种类的摩擦表面原柱分析试验装置。本文作者评述了这些装置,包括最近在兰州化学物理研究所建立的多功能表面分析摩擦试验装置。同时,介绍了一些由这类装置进行的有趣的试验研究。
二硫化钼表面氧化行为的研究:...
,薛群基
摩擦学学报 , 1992,
Abstract:
磁存储硬盘表面全氟聚醚衍生物润滑膜的X射线光电子能谱研究
,余来贵
摩擦学学报 , 1999,
Abstract: 利用XPS分析了计算机硬盘表面全氟聚醚衍生物润滑膜的结构。结果表明,根据XPS谱图中的C15峰位可以分辩润滑剂化学结构式中各官能团;根据硬盘衬底的C-O基PFPE的F-O基团的O15峰强之比可以确定硬盘表面润滑膜的厚度,因工艺条件不同,膜厚处在1.5~6.0nm范围之间。
Ar^+刻蚀对MoS2润滑膜分子结构的影响
,余平贵
摩擦学学报 , 2001,
Abstract: 采用Ar^离子溅射源进行XPS和AES剖面分析,结果发现,Ar^对MoS2分子中的S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的MoSx,Mo原子被还原,Mo3d结合能值向低端位移约1.7eV。应该注意的是,采用Ar^溅射进行XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态,S/Mo原子比同实验值之间亦存在差异,故应采用有关软件对实验结果进行修正。
Page 1 /23840
Display every page Item


Home
Copyright © 2008-2017 Open Access Library. All rights reserved.