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等离子喷涂氧化物超导体
立时
科学通报 , 1987,
Abstract: 高T_c氧化物超导材料问世以来,它的实际应用可能性引起了人们的广泛注意。这种材料的高脆性使得其加工成型非常困难,成为应用的主要障碍之一。本文将报道我们用等离子喷涂工艺研制成功液氮温区超导体的结果,运用此种工艺可以非常方便地在多种基体上复合这类材料,制备出实用超导器件,从而为氧化物超导材料的大规模工业化应用提供了一条有效的途径。
等离子体科学技术应用专题系列介绍第八讲气体放电等离子体在薄膜技术上的应用
立时
物理 , 1987,
Abstract: ?近年来,薄膜材料在国民经济和新技术各领域中发挥了重要的作用。它的迅速发展,无疑也和等离子体在薄膜技术中的广泛应用有关,气体放电等离子体中的高能带电粒子和中性粒子,有助于克服气相沉积化学反应的能障,影响其动力学过程,改变薄膜的结构和性能,从而得到用其它工艺难以制备的材料.一、气体放电等离子体气相沉积中采用的等离子体通常是用辉光、电弧、高频或微波、高压电晕等放电形式产生的,其共同特点是其正负电荷?...
简论发展我国太阳电池及多晶硅产业
沈辉,立时
科技导报 , 2006,
Abstract: 对国内外太阳能光伏发电产业的发展现状进行了评述,指出了我国光伏发展在政策、技术和应用方面存在的一些问题,并就我国太阳电池与多晶硅材料关键技术的发展提出了看法与建议。
超薄Al膜可见光吸收率的尺寸效应
白雪冬,黄荣芳,立时
金属学报 , 1998,
Abstract: 利用WFZ—D4型紫外/可见分光光度计测量了超薄Al膜可见光吸收率与膜厚变化的关系.结果表明,在薄膜生长的不同厚度阶段具有不同的吸收特性,吸收率存在明显的尺寸效应.随着薄膜厚度减小,吸收率具有极大值.与直流电导率实验结果对比分析,结构特征变化是导致吸收率尺寸效应的重要原因.
脉冲偏压电弧离子镀室温沉积非晶TiO2薄膜
张敏,林国强,董闯,立时
金属学报 , 2007,
Abstract: 采用脉冲偏压电弧离子镀技术在玻璃基片上制备均匀透明的非晶二氧化钛薄膜,在0~900V范围内改变脉冲偏压幅值,考察其对氧化钛薄膜光学性能的影响。结果表明,室温下沉积态薄膜为非晶态。脉冲偏压对薄膜光学性能有明显的影响。随着脉冲偏压的升高,薄膜沉积速率以100V为界先高后低;薄膜的吸收边先红移后蓝移,但光学带隙Eg基本无变化,约为3.27eV;300V偏压时薄膜达到原子级表面平滑度,RRMS为0.113nm,因而薄膜折射率也最高,nλ=550达到已有报道的最高值2.51。
B,C,Al对热压SiC烧结的影响
苏国跃,夏非,立时
金属学报 , 1987,
Abstract: SiC~Al_C_5-BC三元系在1800℃下除了生成Al_4SiC_4和Al_4Si_2C_5以外,还析出新的B-C-Al化合物,即Al_8B_4C_7相.本文研究了Al_8B_4C_7相的存在范围,及其在不同温度和压力下对热压SiC烧结的影响.实验采用工业SiC粉.试样在高于1800℃热
THE OXIDATION OF ION PLATED Ni-Cr ALLOY FILM AT 300℃
王淑荷,陈秀芝,立时
材料研究学报 , 1988,
Abstract: 采用LAS 3000表面分析系统研究了离子镀Ni-Cr 合金膜300℃的氧化行为。结果表明,Fe,Cr,Al,被氧化,形成Cr_2O_3,Fe_2O_3和Al_2O_3等氧化物,Ni 基本上未被氧化。对于不同的氧化时间,氧化层成分的变化规律基本一致,氧化过程遵从对数规律。形成的氧化膜薄且致密,氧化速度缓慢,有较好的抗氧化性。
Oxidation of Ion Plated Ni—Cr Alloy Film at 300℃
王淑荷,陈秀芝,立时
材料科学技术学报 , 1989,
Abstract: Investigation by using LAS 3000 surfaceanalysis system showed that the oxide of Fe,Cr,Al formed during oxidation were Cr_2O_3,Fe_2O_3and Al_2O_3,but only small amount of nickel oxidewas found.The composition of oxide layers for differentoxidation durations varied in a similar way.In all cases,there exists an oxygen concentrationpeak in the composition profile of oxide layer.There is a transitional zone between oxide layerand alloy film.The thickness of oxide layerincreases logarithmically with the time of oxida-tion.The ion plated Ni-Cr alloy film has verydense oxide layer and good oxidation resistance.
等离子喷涂镍基合金非晶涂层的组织与性能
陈桂云,周序科,立时,张永昌
腐蚀科学与防护技术 , 1992,
Abstract: 用超声气体雾化法制备了一种快凝Ni-Mo-Cr-B合金微晶粉末,使用常规的等离子喷涂工艺可以将该粉末沉积在金属基体上形成一个致密的涂层。该涂层具有较高的结合强度和硬度,在不同的腐蚀介质中显示出较好的耐蚀性和耐磨性.经X射线衍射,差热分析和透射电镜做的微晶结构分析表明,快凝镍基微晶粉末经过等离子喷涂后发生了非晶转变,所获得的非晶涂层具有较高的热稳定性,在600℃以下的温度范围内不发生晶化过程,与此同时对比了同一种粉末采用氧乙炔火焰喷涂的不同工艺后涂层力学性能的差别。
分子自组装薄膜的偏振结构和热稳定性
龚建勋,刘正义,曾德长,立时
科学通报 , 2007,
Abstract: 偏振片薄膜化有利于液晶显示器件实现小型化、集成化和轻量化.二向色性稠环芳烃化合物如还原蓝RSN(N,N′-二氢化蒽醌吖嗪)、还原猩红GG(N,N′-二苯并咪唑-1,45,8-萘酰亚胺)(其顺式异构体为还原枣红HRR)和还原深蓝BO(紫蒽酮)磺化改性后形成双亲性化合物,在极性溶剂(如水)中,分子自组装为结构有序的聚集体,即溶致液晶相,将其定向剪切并涂布为湿膜,溶剂蒸发后,形成具有偏振效应的厚0.4~0.7μm薄膜.小角度XRD分析表明,呈典型的层状堆跺结构,磺酸基位置、不同分子比例、溶致液晶浓度等因素影响层面间距和堆垛方式.耐热性实验和热重综合分析(TG-DSC)表明该薄膜具有优良的耐热和耐湿热性,耐热温度可到200~300℃,远高于碘素偏振片,且分子混合组装薄膜较其单一分子自组装薄膜的耐热性高.
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