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无 氧 条 件 下TiO2 薄 膜 界 面 光 催 化 反 应 的XPS 研 究
杨喜昆,胡显, ,楚国栋
分子催化 , 2009,
Abstract: 设 计 利 用 X 射 线 光 电 子 能 谱 仪 的 高 真 空 系 统 作 为 无 氧 条 件 下 光 催 化 反 应 和 分 析 的 场 所 , 研 究 真 空 无 氧 环 境 和 大 气 有 氧 环 境 中 紫 外 光 激 发 TiO2 薄 膜 表 面 的 光 催 化 反 应 , 并 对 无 氧 条 件 下 TiO2 薄 膜 降 解 亚 甲 基 蓝 进 行 初 步 探 索 . 结 果 表 明 , 在 大 气 有 氧 和 真 空 无 氧 条 件 下 TiO2 薄 膜 经 紫 外 光 照 后 , 表 面 的 化 学 组 成 和 化 学 状 态 均 发 生 了 变 化 ; 在 有 氧 环 境 中 TiO2 薄 膜 表 面 氧 含 量 增 加 , 而 在 无 氧 环 境 中 TiO2 薄 膜 表 面 氧 含 量 减 少 . TiO2 薄 膜 表 面 的 吸 附 氧 是 维 持 无 氧 条 件 下 光 催 化 反 应 的 重 要 原 因 , 增 加 薄 膜 表 面 吸 附 氧 的 含 量 能 提 高 TiO2 薄 膜 在 无 氧 环 境 中 的 催 化 活 性 . 此 外 , 无 氧 条 件 下 TiO2 薄 膜 降 解 亚 甲 基 蓝 光 催 化 反 应 过 程 中 , 亚 甲 基 蓝 分 子 只 是 脱 去 了 某 个 含 氮 的 基 团 , 生 成 了 中 间 产 物 , 而 并 没 有 完 全 降 解 .
化学气相沉积-氧化烧结法制备惯性约束聚变靶用空心玻璃微球
徐伟,王涛,,吴章文
强激光与粒子束 , 2015,
Abstract: ?为实现惯性约束聚变靶用空心玻璃微球直径、壁厚的可控,采用等离子体辉光放电聚合技术,以四甲基硅烷为掺杂气源,对化学气相沉积-氧化烧结法制备空心玻璃微球(hgm)这一制备方法进行了探索。实验结果表明:制备直径为400~600μm、壁厚为5~15μm的hgm,原子分数为5%是一个较合适的掺硅量,成功将微球直径和壁厚的收缩量控制在38%左右;玻璃化后样品中c含量明显降低,主要以c—si键合形式存在,而si含量相对增加,主要以si—o键合形式存在;预充1.23×106pa氘气的微球,96h后球内剩余气压依然高达72.95%。
磁控溅射制备微球表面金属mo涂层的研究
刘艳松,许华,李俊,
强激光与粒子束 , 2014,
Abstract: ?利用磁控溅射制备了各种工艺参数不同的微球表面金属mo涂层样品,并通过白光干涉仪和扫描电子显微镜对样品的表面及剖面进行了系统的测试分析。分别探究了溅射工作气压和沉积制备时间对微球表面mo涂层表面形貌以及结晶质量的影响规律。结果表明通过优化工艺参数可制备微球直径约为800μm、涂层厚度为3.5μm到14.1μm、厚度均匀性良好的微球表面mo涂层。mo涂层中的晶粒呈现出柱状结构致密堆积在一起,且随涂层的厚度增加晶粒间空隙增大。
功率对氘代辉光放电聚合物结构和力学性能的影响
刘浩,,小珊,贾晓琴,韦建军
强激光与粒子束 , 2014,
Abstract: ?采用射频辉光放电聚合技术,在低压等离子体聚合装置上开展在5~20w功率下氘代辉光放电聚合物薄膜的制备及性能研究。利用傅里叶变换红外吸收光谱仪表征薄膜的化学结构,讨论了功率变化对其官能团结构的影响规律。利用元素分析仪和纳米压痕仪表征薄膜中氘原子的相对含量和薄膜的力学性能。研究表明:随着功率的升高,薄膜中的氘含量先升高后降低,在10w时达到最大,薄膜中sp3cd的相对含量增加,sp3cd2的相对含量减小;聚合物薄膜的硬度和杨氏模量均随功率的增加而减小。
热处理对ch薄膜表面粗糙度及力学性能的影响
贾晓琴,,小珊,韦建军,杜凯,刘浩
强激光与粒子束 , 2014,
Abstract: ?利用低压等离子体化学气相沉积法制备厚度约为7μm的辉光放电聚合物薄膜,将制备的薄膜样品放入通有氩气保护的热处理炉中加热至300℃,分别进行6,10,24h的保温热处理。通过白光干涉仪观察分析了不同保温时间下辉光放电聚合物薄膜的表面粗糙度;利用傅里叶变换红外吸收光谱分析了300℃条件下不同保温时间对薄膜结构的影响;采用纳米压痕仪表征了不同保温时间热处理后,薄膜硬度及模量的变化。结果表明:随着保温时间的增加,薄膜的表面均方根粗糙度由12nm降至4.43nm。薄膜结构中甲基的相对含量减少,双键的相对含量增加,碳链变长,同时薄膜网络结构的交联化程度增强。硬度和模量随着保温时间的增加先减小后增大。
不同工作压强下辉光放电聚合物薄膜的表面形貌与光学性质
,小珊,李俊,牛忠彩,杜凯
强激光与粒子束 , 2015,
Abstract: ?利用低压等离子体聚合技术在不同工作压强下制备了辉光放电聚合物(gdp)薄膜。利用原子力显微镜、傅里叶红外光谱仪、元素分析仪和紫外-可见光谱仪对gdp薄膜的表面形貌、化学结构、碳氢原子数比以及光学性质进行了表征。分析了工作压强对薄膜表面形貌、化学结构、碳氢原子比和光学性质的影响以及相互关系。结果表明:gdp薄膜的表面形貌随工作压强的增大而变得平整光滑,均方根粗糙度逐渐减小。随工作压强增大,gdp薄膜的化学结构的相互交联化程度减弱,c=c双键含量不断减小,碳氢原子数比不断减小,氢元素含量逐渐增大,薄膜的光学透过率截止波长发生“蓝移”,光学间隙不断增加。
α-c:h膜表面形貌及光学性能的测试分析
刘兴华,吴卫东,,袁前飞,王红斌,蔡从中
强激光与粒子束 , 2007,
Abstract: ?以h2和反式-2-丁烯(t2b)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了α-c:h薄膜。采用原子力显微镜、扫描电镜测试了α-c:h薄膜的表面形貌,分析了实验参数对其形貌的影响。研究表明:固定压强(15pa),当t2b/h2流量比为4时,薄膜均方根粗糙度可达0.97nm。保持t2b/h2流量比固定,增加工作气压,薄膜均方根粗糙度减小,表面更平整、致密。利用傅里叶变换红外光谱仪对薄膜价键结构进行分析,结果表明:α-c:h薄膜中主要存在sp3c—h键,氢含量较高;t2b/h2流量比越低,薄膜中含有更多的c=c键。应用uv-vis光谱仪,获得了波长在200~1100nm范围内薄膜的光吸收特性,α-c:h薄膜透过率可达98%,计算得到的折射率在1.16~1.40。随工作气压的增加,α-c:h薄膜中sp3杂化键增多,透过率、折射率增大。
溅射功率对直流磁控溅射ti膜结构的影响
程丙勋,吴卫东,,许华,唐永建,卢铁城
强激光与粒子束 , 2006,
Abstract: ?采用直流磁控溅射方法制备了纯ti膜,研究了不同功率下ti膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构,并对其应力进行了研究。研究表明:薄膜的沉积速率随溅射功率的增加而增加,当溅射功率为20w时,原子力显微镜(afm)图像显示ti膜光洁、致密,均方根粗糙度最小可达0.9nm。x射线衍射(xrd)分析表明薄膜的晶体结构为六方晶型,ti膜应力先随溅射功率增大而增大,在60w时达到最大值(为945.1mpa),之后随溅射功率的增大有所减小。
溅射功率对碳化硼薄膜组分与力学性能的影响
张玲,,李俊,许华,谌家军
强激光与粒子束 , 2013,
Abstract: ?采用射频磁控溅射技术,在不同溅射功率条件下制备了碳化硼薄膜,并用x射线光电子能谱(xps)和傅里叶变换红外吸收光谱(ft-ir)对碳化硼薄膜的组分进行了定量表征,分析了功率变化对碳化硼组分的影响。利用纳米压入仪通过连续刚度法(csm)对碳化硼薄膜的硬度和模量等力学性能进行了分析。研究表明:随着功率的增大,硼与碳更易结合形成b—c键,在功率增大到250w时,b—c键明显增多;在250w时,硼与碳的原子分数比出现了最大值5.66;碳化硼薄膜的硬度与模量都随功率的增大呈现出先增大后减小的趋势,且在250w时均出现了最大值,分别为28.22gpa和314.62gpa。
α-c∶h膜化学结构对光学性能的影响
刘兴华,吴卫东,,张宝玲,王红斌,蔡从中
强激光与粒子束 , 2009,
Abstract: ?选用体积分数为99.9999%的h2及反式-2-丁烯(t2b)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了α-c∶h薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪和x射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结构进行分析,并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3c杂化键分数。结果表明:薄膜中氢含量较高,主要以sp3c—h形式存在;工作气压越高,制备的薄膜中c=c键含量越少,薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3c杂化键分数增加,薄膜稳定性提高。应用uv-vis光谱仪,获得了波长在400~1000nm范围内薄膜的光吸收特性,结果显示:α-c∶h薄膜透过率可达98%。光学常数公式计算得到工作压强为4~14pa时光学带隙在2.66~2.76之间,并均随着工作气压的升高而增大。结果表明,随工作气压的升高,薄膜内sp3键减小,从而促使透过率、光学带隙增大。
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