oalib
Search Results: 1 - 10 of 100 matches for " "
All listed articles are free for downloading (OA Articles)
Page 1 /100
Display every page Item
Propiedades eléctricas, ópticas y estructurales de películas delgadas de SnO2 nanoestructuradas, depositadas a partir de acetilacetonatos  [cached]
R. Vázquez Arreguín,M.A. Aguilar Frutis,J. Guzman Mendoza,M. García Hipólito
Revista mexicana de física , 2011,
Abstract: Películas delgadas de oxido de esta o (S11O2). Fueron depositadas mediante la técnica de rocío pirolítico ultrasonico. Las películas se depositaron sobre substratos de vidrio empleando dicloruro de acetilacetonato de esta o [(C5H8O2)2SnCl2] como material fuente y N, N-DMF como solvente, a temperaturas de 400 a 550° C. Se presentan las propiedades ópticas, eléctricas y estructurales de las películas obtenidas utilizando un precursor organometálico.
Propiedades eléctricas, ópticas y estructurales de películas delgadas de SnO2 nanoestructuradas, depositadas a partir de acetilacetonatos
Vázquez Arreguín, R.;Aguilar Frutis, M.A.;Guzman Mendoza, J.;García Hipólito, M.;Fragoso-Soriano, R.;Falcony Guajardo, C.;
Revista mexicana de física , 2011,
Abstract: tin oxide (sno2) thin films, were deposited using ultrasonic spray pyrolysis technique. the films were deposited on glass substrates using tin acetylacetone dichloride [(c5h8o2)2sncl2], as raw material, and, n, n-dmf as solvent, at temperatures from 400 to 550°c. the optical, electric and structural properties of thin films obtained using an organometalic precursor are presented.
Calentador de sustratos compacto y de bajo costo para tratamiento térmico in situ de películas delgadas depositadas por rf-sputtering
A. Márquez-Herrera,E. Hernández-Rodríguez,M.P. Cruz-Jáuregui,M. Zapata-Torres
Revista mexicana de física , 2010,
Abstract: En este trabajo se presenta el dise o y construcción de un calentador de sustratos de bajo costo, el cual es capaz de operar en sistemas de alto vacío. Su utilización se centra en proporcionar tratamiento térmico in-situ durante el crecimiento de películas delgadas bajo condiciones de presión controlada y atmósfera corrosiva. El calentador fue construido principalmente de acero inoxidable, cerámica y una resistencia comercial de khantal-A1. El cuerpo del horno es enfriado usando un sistema de aletas y líquido refrigerante, el cual se encuentra completamente aislado de la cámara de depósito. El dise o del calentador también incorpora un sistema de rotación que permite que el sustrato gire durante el proceso de crecimiento proporcionando uniformidad a la película. La temperatura del sustrato es monitoreada mediante un termopar tipo "K" que retroalimenta a un controlador de temperatura, el cual modula una fuente de poder variable que suministra el voltaje a la resistencia. Con el propósito de evaluar la funcionalidad del sistema de calentamiento, éste se montó en un equipo de rf-sputtering y se crecieron películas delgadas de BaTiO3 con distintas temperaturas de sustrato en una geometría off-axis. El sistema de tratamientos térmicos in-situ es capaz de proveer una temperatura uniforme al sustrato así como de operar por largos periodos de tiempos.
Influencia del tratamiento térmico en la cristalización y rugosidad de películas delgadas de LiNbO3 depositadas por el método “Spin Coating”  [cached]
Zirpoli, A.,Varela, J. A.,González, A. H. M.,Giménez, R.
Boletín de la Sociedad Espa?ola de Cerámica y Vidrio , 2001,
Abstract: Lithium niobate (LiNbO3) thin films with 1/1 stoichiometry were prepared by a spin-coating from polymeric precursor method. The films deposited on silicon (100) substrates, were thermally treated from 400° to 600°C for 3 hours in order to study the influence of thermal treatment on the crystallinity, microstructure, grain size and roughness. X-ray diffraction (XRD) results showed that LiNbO3 phase crystallizes at low temperature (400°C). It was observed by scanning electron microscopy (SEM) that it is possible to obtain dense thin films at temperatures around 500°C. The atomic force microscopy (AFM) results showed that the grain size and roughness are strongly influenced by the annealing temperature. Películas delgadas de niobato de litio (LiNbO3) con estequiometria 1/1 han sido preparadas por el proceso “spin-coating” utilizándose precursores poliméricos. Las capas depositadas en sustratos de silicio (100) han sido tratadas térmicamente entre 400°C y 600°C durante 3 horas. El objetivo ha sido estudiar como el tratamiento térmico influye en la cristalinidad, microestructura, tama o de granos y rugosidad de as películas. La cristalización de la fase LiNbO3 ocurre a bajas temperaturas (400 C), como demuestran los resultados de análisis por difracción de rayos-X (DRX) obtenidos para las películas. Los resultados por MEB posibilitaron la conclusión de que a temperaturas alrededor de 500°C se obtienen películas delgadas densas. Por su turno, el tama o de granos y rugosidad son muy afectados por la temperatura de calentamiento, siendo esta conclusión posible por los análisis por MFA.
Influencia del substrato sobre las propiedades ferroeléctricas de láminas delgadas de PTCa  [cached]
Jiménez, R.,Poyato, R.,Pardo, L.,Alemany, C.
Boletín de la Sociedad Espa?ola de Cerámica y Vidrio , 1999,
Abstract: The ferroelectric properties of calcium modified lead titanate (Pb0.76Ca0.24)TiO3 (PTCa) thin films prepared by a sol - gel method with successive crystallisations on three different substrates (A) Pt / Ti / SiO2 / Si (100), (B) Ti / Pt / Ti / SiO2 / Si(100) y (C) Pt / TiO2 / SiO2 /Si (100), have been studied. The results of the ferroelectric characterisation show values of the spontaneous pyroelectric coefficient close to ≈ 5 .10-9 C cm-2 K-1. The low switching properties favour the stabilisation in time of the pyroelectric coefficient value. Alatter annealing thermal treatment (650oC 1h) produces changes in the ferro - piezoelectric properties that can be related with changes in the texture of the films. Se han estudiado las propiedades ferroeléctricas de láminas delgadas de titanato de plomo modificado con calcio (Pb0.76Ca0.24)TiO3 (PTCa) preparadas vía sol gel mediante cristalizaciones sucesivas sobre tres tipos de substratos: (A) Pt / Ti / SiO2 / Si (100), (B) Ti / Pt / Ti / SiO2 / Si(100) y (C) Pt / TiO2 / SiO2 /Si (100). Los resultados de la caracterización ferroeléctrica muestran valores del coeficiente piroeléctrico espontáneo entorno a ≈ 5 .10-9 C cm-2 K-1. La baja conmutabilidad de las láminas facilita la estabilización del valor del coeficiente piroeléctrico en el tiempo. Un tratamiento térmico posterior de recocido a 650oC 1 hora produce cambios en las propiedades ferro-piezoeléctricas que se pueden asociar con modificaciones de la textura en las láminas.
Viabilidad de películas delgadas de (Pb, Ca) TiO3 depositadas sobre Pt/TiO2/SiO2/Si(100) en aplicaciones de conmutación  [cached]
Jiménez, R.,Calzada, M. L.,Alemany, C.,Ramos, P.
Boletín de la Sociedad Espa?ola de Cerámica y Vidrio , 1999,
Abstract: (Pb,Ca)TiO3 ferroelectric thin films have been spin-coated on Pt/TiO2/SiO2/Si(100) substrates from sol-gel synthesized solutions. Selecting the solution concentrations and the excess of PbO content, stoichiometric composicion with reduced strains are obtained. Crystallization process by rapid thermal treatment (RTP) promote preferred orientations [001]/[100] resulting a thiner ferroelectric-platinum interface layer, which causes the improvement of fatigue and retain behaviour, despite the use of platinum electrodes. These experimental finds let to cosider the described methode of processing very convenient to prepare thin films of this composition to use on switching applications such as non volatil RAM memories. Se han depositado láminas delgadas de (Pb,Ca)TiO3 sobre substratos de Pt/TiO2/SiO2/Si(100) por centrifugación, partiendo de soluciones sintetizadas por sol-gel. La concentración de las soluciones y el contenido de PbO se seleccionaron para minimizar las tensiones de las láminas cristalizadas y obtener la adecuada estequiometria. La cristalización mediante un calentamiento rápido (RTP), conduce a láminas con orientaciones preferentes [001]/[001], reducida capa interfacial ferroeléctrico-Pt y composición deseada. Los parámetros ferroeléctricos obtenidos muestran una mejora de las propiedades. Estas láminas presentan una fatiga y envejecimiento mucho más moderados que otros materiales alternativos depositados sobre substratos iguales, lo que permite considerar al método descrito como muy valioso para conseguir materiales susceptibles de emplear en aplicaciones de conmutación.
Calentador de sustratos compacto y de bajo costo para tratamiento térmico in situ de películas delgadas depositadas por rf-sputtering
Márquez-Herrera, A.;Hernández-Rodríguez, E.;Cruz-Jáuregui, M.P.;Zapata-Torres, M.;Zapata-Navarro, A.;
Revista mexicana de física , 2010,
Abstract: in this work we present the design, construction and the evaluation of a low cost substrate heater for working at high vacuum. its use concentrates in providing in-situ annealing during the growth of thin films under conditions of controlled pressure and corrosive atmosphere. the heater was constructed mainly of stainless steel, ceramic and a resistance of khantal-al. the body of the heater is cooled using a system of fins and cooling liquid which is isolated completely of the vacuum chamber. the design of the heater also incorporates a rotation system that allows that the substrate turns during the process of growth providing uniformity to the film. temperature of the substrate is recorded by a type "k" thermocouple which feeds back a temperature controller that provides a modulated voltage to the heating resistance. in order to evaluate the functionality of the heating system, this was mounted in a rf-sputtering equipment and thin films of batio3 were grown under different substrate temperatures in an off-axis geometry. the heating system is able to provide an uniform temperature to the substrate as well as to operate by long periods of times.
Efecto de la temperatura de deposición en las características estructurales y ópticas de películas delgadas de nitruro de boro obtenidas por CVD  [cached]
Essafti, A.
Boletín de la Sociedad Espa?ola de Cerámica y Vidrio , 2007,
Abstract: Boron nitride (BN) thin films were deposited on silicon substrates by thermal CVD using mixtures of ammoniac and diborane. The effect of the deposition temperature (T) on the structural and optical characteristics of the BN samples was studied in the temperature range of 500 – 1000 oC. The deposition rate reached its maximum (1600 /min) at T = 900 oC. The activation energy (Ea) of the reaction NH3 + B2H6, determined from the Arrhenius plot, is of 13.6 kcal/mol in the 500 – 900 oC range. The Infrared spectroscopy revealed the existence of different bands corresponding to B-H, N-H and B-N bonds. The concentration of B-H and N-H species is below the detection limit of IR spectroscopy in the BN films deposited at T ≥ 800 oC. The chemical analysis by XPS spectroscopy showed the presence of B-B and B-N bonds. An increase of the deposition temperature lead to a decrease of B-B bonds, which favors the formation of quasi-stoichiometric BN at T = 1000 oC. At this temperature, the resulting BN films are highly transparent with a refractive index of 1.7. The BN films deposited at T ≤ 900 oC are amorphous, nevertheless at T = 1000 oC they are partially crystallized with a turbostratic structure. Se depositaron películas de nitruro de boro (BN) sobre sustratos de silicio mediante CVD térmico utilizando mezclas de diborano y amoníaco. Se estudió el efecto de la temperatura de deposición (T), en el rango 500 – 1000 oC, sobre las características estructurales y ópticas de las muestras de BN. La velocidad de deposición alcanza su máximo (1600 /min) a T = 900 oC. La energía de activación (Ea) de la reacción NH3 + B2H6, determinada a partir de la representación de Arrhenius, es de 13.6 kcal/mol en el rango 500 – 900 oC. La espectroscopia IR reveló la existencia de diferentes bandas correspondientes a enlaces B H, N H y B-N. La concentración de especies B-H y N-H está por debajo del nivel de detección mediante IR en las películas de BN depositadas a T ≥ 800 oC. El análisis químico por espectroscopia XPS muestró la presencia de enlaces B B y B N. Al aumentar la temperatura de deposición se produce una disminución de los enlaces B B, lo que favorece la formación de BN casi-estequiométrico a T = 1000 oC. A esta temperatura las películas resultantes de BN son altamente transparentes con un índice de refracción de 1.7. Las películas de BN depositadas a T ≤ 900oC son amorfas, sin embargo a T = 1000oC cristalizan parcialmente con una estructura turbostrática.
Nuevo método de caracterización geométrica y óptica de láminas delgadas dieléctricas con rugosidad superficial  [cached]
González-Leal, J. M.,Stuchlik, M.,Morant, C.,Sanz, J. M.
Boletín de la Sociedad Espa?ola de Cerámica y Vidrio , 2004,
Abstract: A new method for the geometrical and optical characterization of non-uniform thin isotropic dielectric films deposited onto a transparent substrate, has been developed. The algorithm is based on using the two envelopes of the optical reflection spectrum taken at normal incidence. The method allows determining the average thickness and the refractive index of the films with accuracies better than 1 %. The formulation is not only valid in the case of wedge-shaped thin films, but also for films showing a significant surface roughness. In the latter, the amplitude of the surface roughness can be estimated. Amorphous As40S60 thin films have been deposited by spin coating onto glass substrates, from a solution of the bulk material in n-propylamine. Indications of the surface roughness in these films were found from total reflectance measurements (specular + diffuse), by using a integrating sphere, and also from mechanical measurements, by using a profilometer. The latter technique provided a value for the average surface roughness of 20 ± 4 nm, which is in excellent agreement with that optically determined value of 17.4 ± 0.4 nm. Se ha desarrollado un nuevo método para la caracterización geométrica y óptica de láminas dieléctricas isótropas con espesor variable, depositadas sobre un substrato transparente. Este método está basado en el uso de las dos envolventes de los espectros de reflexión, obtenidos en incidencia normal, y permite determinar el espesor medio y el índice de refracción de estas láminas, con precisiones mejores que el 1 %. La formulación contempla la posibilidad de ser aplicable, no sólo en el caso de láminas cuyo espesor varíe linealmente a lo largo del área cubierta por el haz luminoso de medida, sino en aquellas que presenten un rugosidad significativa en su superficie y, en tal caso, permite determinar la amplitud de la rugosidad promedio. Así, se han preparado láminas delgadas amorfas de composición química As40S60 mediante el centrifugado de una disolución de este compuesto calcogenuro en n-propilamina. La rugosidad superficial de estas láminas se ha puesto de manifiesto a partir de las medidas de la reflectancia total (especular + difusa), haciendo uso de una esfera integradora, así como a través de medidas mecánicas de espesores, usando un perfilómetro. Esta última técnica proporcionó un valor para la amplitud media de la rugosidad de 20 ± 4 nm. El acuerdo entre este valor y el calculado mediante el presente método de caracterización óptica, 17.4 ± 0.4 nm, es excelente.
Efecto de la temperatura en la resonancia ferromagnética del Ni50Fe50/Si(001)  [cached]
M. Díaz de Sihues,P.J. Silva,J.R. Fermín,A. Azevedo C.
Revista mexicana de física , 2006,
Abstract: Reportamos el efecto de la temperatura en el espectro de la resonancia ferromagnética (FMR) en películas de Ni50Fe50 depositadas sobre el substrato de Si(001). El campo de FMR y el ancho de línea fueron estudiados como una función del espesor de la película ferromagnética, t, y de la temperatura, T. Los datos son interpretados con un modelo fenomenológico que incluye campos de anisotropía uniaxial en el plano y fuera del plano. El principal efecto de la temperatura es inducir una anisotropía de superficie que produce un eje uniaxial fuera del plano. El campo de resonancia presenta tres regímenes de temperatura diferentes, con dos temperaturas de transición. El efecto de la temperatura sobre los espectros de FMR se explica en términos de las variaciones de la anisotropía de superficie con la temperatura. Una nueva transición de orden ferromagnético se observa a baja temperatura en la películas mas delgadas.
Page 1 /100
Display every page Item


Home
Copyright © 2008-2017 Open Access Library. All rights reserved.