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    Y.Y.Dai,G.W.Zhao,D.M.Jin.C-MRS INTERNATIONAL’90 Proceedings,Elsevier Science Publications.The Netherlands,2:190~194

has been cited by the following article:

  • TITLE: 碳纤维增强碳化硅陶瓷基复合材料的研究
  • AUTHORS: 杨雪,戴永耀,赵广文,金东明
  • KEYWORDS: ,碳纤维,增强,陶瓷基,复合材料
  • JOURNAL NAME: 材料工程 Jan 21, 2016
  • ABSTRACT: 使用CVD技术提高纤维增强陶瓷基复合材料的密度是很困难的,因为它很难使反应气体完全渗入到基体里面。这是由于“瓶颈”效应所致,即CVD过程阻塞了基体表面的小气孔,进而封闭了通向大气孔的入口。为此,提出一种新的方法位控CVD(PCCVD),来克服上述困难。通过控制反应气体通道位置和试样的加热位置,从而达到控制沉积位置,使沉积界面始终处于开孔状态。使用PCCVD技术制造的C/SiC复合材料,实际密度可达其理论密度的96%.